簡易型曝光機

對於只有曝第一道製程的客戶， 我們推出簡易曝光機，沒有影像對位功能， 但還保有對平操作及間隙調整功能。







紫外光源可採汞燈或UV LED。
汞燈可選：350W、500W、1000W、2000W、3500W、5000W。
UV LED可選：單燈組16晶粒、單燈組36晶粒、四燈組64晶粒、四燈組144晶粒。
曝光光源尺寸：4"、6"、8"、10"、12"。
汞燈波長：NUV (含365nm、405nm、435nm)；UV LED波長：365nm、405nm、365nm+405nm。
光源平行半角：1.5~2.5度 (依出光口徑)。
均勻度：±3~5%。
高壓汞燈電源供應器，或UV LED電源供應器。




無




光罩真空吸盤：4”、5”、7”、9” 下吸式 (選項)。
晶圓或基板真空吸盤：破片、2”或4”、5”、6”、8” (選項)，具光罩與晶圓或基板平行面校正功能。
Z軸調整幅度3mm，解析度1um。
Z軸具千分表可顯示光罩與晶圓間距。
曝光模式：軟接觸式(Soft contact)、近接式(Proximity)、真空接觸式(Vacuum contact)(選項)與硬接觸式(Hard contact)(選項)，真空接觸式可調整真空吸附力大小。
人工置放晶片或基板與調整晶片位置，取放晶圓時光罩吸盤向上開啟。




採全手動撥鈕操作系統，以手動控制面板操作。
操作項目包括光罩與晶圓之更換，光罩與晶圓間隙之切換光罩與晶圓平行面校正， 真空接觸之切換與真空值調整Z軸的歸零，
曝光源左右移至對準台上方，快門控制計時器 : 0.1~999.9秒。




大鋁板機座、 不鏽鋼機架、 四個防震氣墊、具調整腳、移動輪、CDA輸入調整、真空輸入、電源輸出入等。




採真空接觸曝光圖形解析最佳可達1um以內(正光阻厚1um)。
採近接式曝光依晶圓與光罩間距設定最佳約在 3~5um。