全手動光罩對準曝光機

適合研究單位使用

全手動操作，每一個動作可單獨操作，適合實驗室研究使用或量產前製程開發使用。







紫外光源可採汞燈或UV LED。
汞燈可選：350W、500W、1000W、2000W、3500W、5000W。
UV LED可選：單燈組16晶粒、單燈組36晶粒、四燈組64晶粒、四燈組144晶粒。
曝光光源尺寸：4"、6"、8"、10"、12"。
汞燈波長：NUV (含365nm、405nm、435nm)；UV LED波長：365nm、405nm、365nm+405nm。
光源平行半角：1.5~2.5度 (依出光口徑)。
均勻度：±3~5%。
高壓汞燈電源供應器，或UV LED電源供應器。




採用可變倍率鏡頭方便對準操作，標準總倍率 50x-300x， 配合CCD影像系統。
LCD螢幕顯示影像。
對位光源：LED同軸光或環形光(選配)， 觀測的兩點間距 4cm-15cm，可選配轉折鏡達到更小間距。
可選配鏡頭掃描台以快速移動鏡頭。
可選配背面對準影像系統。




光罩真空吸盤：上吸式或下吸式 4″、5″、6″、7″、9″。
晶圓真空吸盤：2″、4″、5″、6″、8″， 圓或方，具光罩晶圓水平校正功能。
曝光模式：軟接觸式(Soft contact)、近接式(Proximity)、真空接觸式(Vacuum contact)(選項)與硬接觸式(Hard contact)(選項)，真空接觸式可調整真空吸附力大小。
X，Y軸調整幅度10mm，解析度1um；Z軸調整幅度5mm，解析度1um。
千分表解析度1um。
上光罩以手開啟以取放基板。




全手動操作系統，每一動作均需手動操作。
操作流程 : 置基板， (按鍵)上光罩關閉，鏡頭移入做對準動作，(按鍵)上光罩下壓,鏡頭移出燈源移入曝光(計時)，
燈源移出取，上光罩開啟，取基板。
曝光快門控制 : 計時器控制 0.1-999秒。
能量控制(選配) : 0.1~9000mJ/cm2。




大鋁板機座、不鏽鋼支架，具四個防震氣墊、調整腳、移動輪、CDA輸入調整、真空輸入、電源輸出入等。




採真空接觸曝光圖形解析最佳可達1um以內 (正光阻厚 1um )，
採近接式曝光依晶圓與光罩間距設定最佳約在3~5um。