雙面對準曝光機

雙面對準單面曝光系統

對於無法正常正面對位之製程，可以採用背面對位方式來對位， 雙面對準曝光機包含有正面對位及背面對位兩套對位影像系統。







紫外光源可採汞燈或UV LED。
汞燈可選：350W、500W、1000W、2000W、3500W、5000W
UV LED可選：單燈組16晶粒、單燈組36晶粒、四燈組64晶粒、四燈組144晶粒。
曝光光源尺寸：4"、6"、8"、10"、12"。
汞燈波長：NUV (含365nm、405nm、435nm)；UV LED波長：365nm、405nm、365nm+405nm。
光源平行半角：1.5~2.5度 (依出光口徑)。
均勻度：±3~5%。
高壓汞燈電源供應器，或UV LED電源供應器。




正面對準影像系統採用可變倍率鏡頭方便對準操作，標準倍率 50x-300x。
配合CCD影像系統，19″LCD螢幕，打光有LED同軸光或環形光，觀測的兩點間距4cm-15cm。
可選配鏡頭掃描台以快速移動鏡頭，背面對準影像系統採用多段倍率鏡頭或固定倍率鏡頭。
雙CCD攝影機影像系統，切換使用上影像LCD螢幕LED同軸打光，兩組背對準影像處理器。
鏡頭前後左右上下微調約10mm，可加裝破片對位用菱鏡組。




光罩真空吸盤：上吸式或下吸式 4″， 5″，6″，7″， 9″ 。
晶圓真空吸盤：2″、4″、6″、8″，圓形或方形，具光罩晶圓水平校正功能。
曝光模式：軟接觸式(Soft contact)、近接式(Proximity)、真空接觸式(Vacuum contact)(選項)與硬接觸式(Hard contact)(選項)，真空接觸式可調整真空吸附力大小。
X，Y軸調整幅度10mm，解析度2um；Z軸調整幅度5mm，解析度1um。
千分表解析度1um。
上光罩開啟以取放基板。




採PLC半自動操作系統，可切換手動及自動模式。
曝光快門控制：計時器控制 0.1-999秒或能量控制 : 0.1~9000mJ/cm2。




具四個防震氣墊，具調整腳及移動輪， 鋁擠型機架加鋁板及黃色PVC抗靜電包覆機台，開數個操作與維修門窗及視窗。




產量依對位精度及曝光時間而不同最快可達每分鐘曝三片。
採真空接觸曝光圖形解析最佳可達1um以內(正光阻厚1um)。
採近接式曝光依晶圓與光罩間距設定最佳約在3~5um。