桌上型曝光機

適合研究單位使用

保有全手動之完整功能， 取消手動機下方之機架以及後方之箱體， 做最簡化之設計， 適合預算不多之客戶。







紫外光源可採汞燈或UV LED。
汞燈可選：350W、500W、1000W
UV LED可選：單燈組16晶粒、單燈組36晶粒、四燈組64晶粒。
曝光光源尺寸：4"、6"、8"、10"。
汞燈波長：NUV (含365nm、405nm、435nm)；UV LED波長：365nm、405nm、365nm+405nm。
光源平行半角：1.5~2.5度 (依出光口徑)。
均勻度：±3~5%。
高壓汞燈電源供應器，或UV LED電源供應器。




採用可變倍率鏡頭影像系統，總影像倍率 100X-600X 小型高解析黑白CCD攝影機。
19”LCD螢幕 LED同軸光源打光，影像解析度最佳可達 1um 鏡頭位置調整，可前後左右上下微調約 20mm。
可選擇使用一組或兩組影像系統， 選配快速掃描台，可快速移動鏡頭，前後左右移動約 10cm。




光罩真空吸盤：4”、5″或6”下吸式。
晶圓真空吸盤：破片、2”、3″、4″或5”，具光罩與晶圓平行面校正功能。
X，Y軸調整幅度10mm，解析度1um；T軸調整幅度5度，解析度0.001度；Z軸調整幅度3mm，解析度1um。
Z軸具千分表可顯示光罩與晶圓間距、可設定對準與曝光兩種間隙。
曝光模式：軟接觸式(Soft contact)、近接式(Proximity)、真空接觸式(Vacuum contact)(選項)與硬接觸式(Hard contact)(選項)，真空接觸式可調整真空吸附力大小。
人工置放晶片與調整晶片位置，取放晶圓時光罩吸盤以手開啟。




採全手動撥鈕操作系統，以手動控制面板操作 。
操作項目包括光罩與晶圓之更換、光罩與晶圓間隙之切換、光罩與晶圓平行面校正、真空接觸之切換與真空值調整Z軸的歸零。
鏡頭與曝光源左右交替移至對準台上方，並有安全互鎖功能。




桌上型大底板機座，具有調整腳。




採真空接觸曝光圖形解析最佳可達1um(正光阻厚1um)。
採近接式曝光依晶圓與光罩間距設定最佳約在 3~5um。